曝光装置、曝光方法和物品制造方法

专利内容

(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 113759666 A (43)申请公布日 2021.12.07 (21)申请号 202110598161.5 (22)申请日 2021.05.31 (30)优先权数据 2020-097739 2020.06.04 JP (71)申请人 佳能株式会社 地址 日本东京 (72)发明人 铃木敢士　八讲学　 (74)专利代理机构 中国贸促会专利商标事务所 有限公司 11038 代理人 宋岩 (51)Int.Cl. G03F 7/20 (2006.01) 权利要求书3页 说明书13页 附图25页 (54)发明名称 曝光装置、曝光方法和物品制造方法 (57)摘要 公开了曝光装置、曝光方法和物品制造方 法。一种被配置为将基板曝光于来自固态发光元 件的光的曝光装置包括：照明光学系统，被配置 为用光照明掩模；以及投影光学系统，被配置为 将掩模的图案的图像投影到基板上，其中，作为 被包含在照明光学系统中的并与固态发光元件 的发光面光学共轭的光瞳面上的光强度分布的 光瞳面强度分布是在照明光学系统的光轴之外 实现最大强度的光强度分布，并且其中，光瞳面 强度分布是发光面的发光分布被以预定倍率投 影的光瞳面上的光强度分布。 A 6 6 6 9 5 7 3 1 1 N C CN 113759666 A 权　利　要　求　书 1/3页