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发明

一种集尘器、等离子体处理设备及调压方法

2023-05-12 11:50:00 发布于四川 1
  • 申请专利号：CN202011392147.1
  • 公开（公告）日：2025-04-08
  • 公开（公告）号：CN114582694A
  • 申请人：中微半导体设备（上海）股份有限公司
摘要：本发明提供了一种集尘器，等离子体处理设备及调压方法，包括与等离子设备腔室相连的气体管道，真空泵，位于腔室和真空泵之间的圆环形的第一框架，通过第一转动轴与第一框架的侧壁连接的多个叶片，多个所述叶片之间按照一定间隔排列，电压设备，用于在相邻两个叶片之间施加不同极性电压，可以在等离子体反应过程中，利用静电吸附原理，将反应过程中产生的大颗粒灰尘固定在通电的叶片上，倾斜的叶片还可以阻挡气体管道中的颗粒逆流回反应腔，并且叶片的倾斜角度可以调整，以适应反应腔内所需气压。

专利内容

(19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 114582694 A (43)申请公布日 2022.06.03 (21)申请号 202011392147.1 H01L 21/67 (2006.01) (22)申请日 2020.12.01 (71)申请人 中微半导体设备（上海）股份有限公 司 地址 201201 上海市浦东新区金桥出口加 工区（南区）泰华路188号 (72)发明人 王恒阳　连增迪　吴狄　 (74)专利代理机构 上海元好知识产权代理有限 公司 31323 专利代理师 徐雯琼　张静洁 (51)Int.Cl. H01J 37/32 (2006.01) H01J 37/18 (2006.01) H01J 37/305 (2006.01) H01L 21/3065 (2006.01) 权利要求书2页 说明书5页 附图3页 (54)发明名称 一种集尘器、等离子体处理设备及调压方法 (57)摘要 本发明提供了一种集尘器，等离子体处理设 备及调压方法，包括与等离子设备腔室相连的气 体管道，真空泵，位于腔室和真空泵之间的圆环 形的第一框架，通过第一转动轴与第一框架的侧 壁连接的多个叶片，多个所述叶片之间按照一定 间隔排列，电压设备，用于在相邻两个叶片之间 施加不同极性电压，可以在等离子体反应过程 中，利用静电吸附原理，将反应过程中产生的大 颗粒灰尘固定在通电的叶片上，倾

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