1. 您所在位置：
  2. 网站首页
  3. 专利分类
  4. 物理
PCT发明

曝光装置及曝光方法

2023-07-06 11:03:44 发布于四川 1
  • 申请专利号：CN202080035298.3
  • 公开（公告）日：2024-08-30
  • 公开（公告）号：CN113841089A
  • 申请人：株式会社V技术
摘要：无需使用复杂的机构，就能够与厚度不同的各种各样种类的基板或组装误差等引起的高度方向的偏离对应。在载置掩模的工作台的上表面，设置有高度变化且沿大致沿着水平面的第一方向设置的肋。在肋的与底面相反的一侧的上表面，沿着第一方向设置有多个识别标记。

专利内容

(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 113841089 A (43)申请公布日 2021.12.24 (21)申请号 202080035298.3 (74)专利代理机构 中科专利商标代理有限责任 公司 11021 (22)申请日 2020.07.16 代理人 高颖 (30)优先权数据 (51)Int.Cl. 2019-133870 2019.07.19 JP G03F 7/20 (2006.01) (85)PCT国际申请进入国家阶段日 G03F 9/00 (2006.01) 2021.11.11 (86)PCT国际申请的申请数据 PCT/JP2020/027723 2020.07.16 (87)PCT国际申请的公布数据 WO2021/015099 JA 2021.01.28 (71)申请人 株式会社V技术 地址 日本神奈川县 (72)发明人 张尚敦　山崎祥平　大坟秀人　 权利要求书3页 说明书17页 附图1

最新专利

相关专利