一种高DOP的光敏聚酰亚胺光刻胶组合物及其应用2024

专利内容

(19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 117908330 A (43)申请公布日 2024.04.19 (21)申请号 202410050137.1 (22)申请日 2024.01.15 (71)申请人 万华化学集团股份有限公司 地址 264006 山东省烟台市经济技术开发 区重庆大街59号 (72)发明人 韩翠婷　陈彦平　么传旭　马吉全　 杨述瑞　蒋志强　董春燕　 (51)Int.Cl. G03F 7/004 (2006.01) 权利要求书2页 说明书7页 附图1页 (54)发明名称 一种高DOP的光敏聚酰亚胺光刻胶组合物及 其应用 (57)摘要 本发明公开了一种高DOP的光敏聚酰亚胺光 刻胶组合物及其应用，所述光敏聚酰亚胺光刻胶 包括聚酰胺酸树脂、重氮萘醌磺酸酯、热交联剂、 表面活性剂、低收缩添加剂和溶剂。本发明的光 敏聚酰亚胺光刻胶使用的低收缩添加剂一方面 可以降低固化时光敏聚酰亚胺光刻胶膜的收缩， 进而降低表面粗糙度，提高平整性；另一方面可 以增加与聚酰亚胺的粘附性，降低弯折时的脱 落，并且使光敏聚酰亚胺光刻胶膜有更小的弯折 半径，从而增加在制作柔性屏的可靠性。 A 0 3 3 8 0 9 7 1 1 N C CN 117908330 A 权　利　要　求　书 1/2页 1.一种高DOP的光敏聚酰亚胺光刻胶组合物，其特征在于，包括聚酰胺酸树脂、重氮萘 醌磺酸酯、热交联