发明

一种自清洁的磁力传动反应釜2024

2024-01-30 07:17:34 发布于四川 0
  • 申请专利号:CN202311475097.7
  • 公开(公告)日:2024-11-01
  • 公开(公告)号:CN117443324A
  • 申请人:江苏前进特种装备有限公司
摘要:本发明公开了一种自清洁的磁力传动反应釜,属于磁力传动反应釜技术领域,包括底部反应釜,底部反应釜上方位置设置有顶部密封盖,顶部密封盖顶部中心位置设置有磁耦合器。本发明通过设置清洗尼龙布,通过清洗尼龙布在搅拌轴主体位置上转动,清洗尼龙布会对底部反应釜内壁进行清洗,且在吸收液体后清洗尼龙布变重在竖向摆动块的作用下,往下移动对底部反应釜内壁下方位置进行清洗,使得反应釜内壁清洗干净彻底,且在清洗结束后将底部反应釜内的液体排出,通过离心力的作用将清洗尼龙布的液体甩干,竖向摆动块重新往上移动,且在重力作用下落入滑出清洗框中,再将滑出清洗框滑入限位滑槽中避免后续影响后续的反应。

专利内容

(19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 117443324 A (43)申请公布日 2024.01.26 (21)申请号 202311475097.7 (22)申请日 2023.11.08 (71)申请人 江苏前进特种装备有限公司 地址 214500 江苏省泰州市靖江市新桥工 业园区润新大道8号 (72)发明人 郭建华  (74)专利代理机构 南京志同舟知识产权代理事 务所(普通合伙) 32489 专利代理师 黄律钤 (51)Int.Cl. B01J 19/18 (2006.01) B08B 9/087 (2006.01) 权利要求书2页 说明书6页 附图8页 (54)发明名称 一种自清洁的磁力传动反应釜 (57)摘要 本发明公开了一种自清洁的磁力传动反应 釜,属于磁力传动反应釜技术领域,包括底部反 应釜,底部反应釜上方位置设置有顶部密封盖, 顶部密封盖顶部中心位置设置有磁耦合器。本发 明通过设置清洗尼龙布,通过清洗尼龙布在搅拌 轴主体位置上转动,清洗尼龙布会对底部反应釜 内壁进行清洗,且在吸收液体后清洗尼龙布变重 在竖向摆动块的作用下,往下移动对底部反应釜 内壁下方位置进行清洗,使得反应釜内壁清洗干 净彻底,且在清洗结束后将底部反应釜内的液体 排出,通过离心力的作用将清洗尼龙布的液体甩 干,竖向摆动块重新往上移动,且在重力作用下 A 落入滑出清洗框中,再将滑出清洗框滑入限位滑 4 槽中避免后续影响后续的反应。 2 3 3 4 4 7

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