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发明

有机膜形成用组合物、半导体装置制造用基板、有机膜形成方法、图案形成方法、及聚合物

2023-05-24 13:22:25 发布于四川 1
  • 申请专利号：CN202010637312.9
  • 公开（公告）日：2024-10-29
  • 公开（公告）号：CN112180686A
  • 申请人：信越化学工业株式会社
摘要：本发明涉及有机膜形成用组合物、半导体装置制造用基板、有机膜形成方法、图案形成方法、及聚合物。本发明的课题为提供可形成不仅在钝性气体中的成膜条件仍会固化，耐热性、形成于基板的图案的填埋、平坦化特性优良，而且升华物少且对基板的成膜性良好的有机膜的聚合物、以及含有该聚合物的有机膜形成用组合物。该课题的解决方法为一种有机膜形成用组合物，含有：具有下述通式(1)表示的部分结构作为重复单元的聚合物及有机溶剂。[化1]该通式(1)中，AR1、AR2为也可具有取代基的苯环或萘环，W1为具有三键的特定部分结构，且也可组合使用2种以上的W1，W2为至少具有1个以上的芳香环的碳数6～80的2价有机基团。

专利内容

(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 112180686 A (43)申请公布日 2021.01.05 (21)申请号 202010637312.9 G03F 1/76 (2012.01) (22)申请日 2020.07.03 (30)优先权数据 2019-125740 2019.07.05 JP (71)申请人 信越化学工业株式会社 地址 日本东京都 (72)发明人 郡大佑　泽村昂志　新井田惠介　 橘诚一郎　渡边武　荻原勤　 (74)专利代理机构 北京林达刘知识产权代理事 务所(普通合伙) 11277 代理人 刘新宇　李茂家 (51)Int.Cl. G03F 7/11 (2006.01) H01L 21/027 (2006.01) G03F 1/56 (2012.01) 权利要求书5页 说明书56页 附图3页 (54)发明名称 数6～80的2价有机基团。 有机膜形成用组合物、半导体装置制造用基 板、有机膜形成方法、图案形成方法、及聚合物 (57)摘要 本发明涉及有机膜形成用组合物、半导体装 置制造用基板、有机膜形成方法、图案形成方法、 及聚合物。本发明的课题为提供可形成不仅在钝 性气体中的成膜条件仍会固化，耐热性、形成于 基板的图案的填埋、平坦化特性优良，而且升华 物少且对基板的成膜性良好的有机膜的聚合物、

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