光学邻近效应修正方法和系统、掩膜版及其制备方法

专利内容

(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 113050367 A (43)申请公布日 2021.06.29 (21)申请号 201911382862.4 (22)申请日 2019.12.27 (71)申请人 中芯国际集成电路制造（上海）有限 公司 地址 201203 上海市浦东新区中国（上海） 自由贸易试验区张江路18号 申请人 中芯国际集成电路制造（北京）有限 公司 (72)发明人 陈术　游林　 (74)专利代理机构 上海知锦知识产权代理事务 所(特殊普通合伙) 31327 代理人 吴凡 (51)Int.Cl. G03F 1/36(2012.01) G03F 7/20(2006.01) 权利要求书2页 说明书6页 附图2页 (54)发明名称 光学邻近效应修正方法和系统、掩膜版及其 制备方法 (57)摘要 本发明实施例提供了一种光学邻近效应修 正方法和系统、掩膜版及其制备方法，所述光学 邻近效应修正方法包括：获取待修正主图形和所 述待修正主图形的重叠图形及重叠边，所述待修 正主图形和其他的主图形按照光刻位置重叠的 部分为重叠图形，所述重叠图形在所述待修正主 图形的外边缘上的边为重叠边；在待修正的所述 重叠边的相邻位置设置散射条辅助图形。本发明 实施例所提供的光学邻近效应修正方