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发明

一种原位生成Bi单质协同氧缺陷的硫酸氧铋光催化剂

2023-05-12 11:05:41 发布于四川 5
  • 申请专利号：CN202211395664.3
  • 公开（公告）日：2024-10-15
  • 公开（公告）号：CN116078405A
  • 申请人：电子科技大学长三角研究院（湖州）
摘要：本发明属于光催化技术领域，公开了一种原位生成Bi单质协同氧缺陷的硫酸氧铋光催化剂，原位生成Bi单质协同氧缺陷的硫酸氧铋光催化剂是由含硫化合物与含铋硝酸盐混合后经固相研磨退火，再原位还原而成，由Bi单质、氧缺陷和硫酸氧铋三相构成。本发明的催化剂应用于光催化去除氮氧化物；Bi单质协同氧缺陷的硫酸氧铋的成功构建，有效利用Bi金属的SPR效应，提高了纯相硫酸氧铋的光催化性能，氧缺陷不仅诱导了中间能级的形成，减小了带隙，还增强了硫酸氧铋对可见光的吸收能力，促进了载流子分离；以硼氢化钠为还原剂原位制备了Bi等离子体协同氧缺陷的硫酸氧铋，条件温和，反应简单。相对于其他专利所报道的光催化剂而言，本发明的Bi单质协同氧缺陷的硫酸氧铋光催化剂，反应条件更加温和，性能优异。

专利内容

(19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 116078405 A (43)申请公布日 2023.05.09 (21)申请号 202211395664.3 B01D 53/56 (2006.01) (22)申请日 2022.11.04 (71)申请人 电子科技大学长三角研究院（湖州） 地址 313000 浙江省湖州市西塞山路819号 科技创新综合体B1幢 (72)发明人 耿芹　谢洪涛　于洋洋　邓邦为　 盛剑平　孙艳娟　董帆　 (74)专利代理机构 广州三环专利商标代理有限 公司 44202 专利代理师 唐莉梅 (51)Int.Cl. B01J 27/053 (2006.01) B01J 37/00 (2006.01) B01J 37/16 (2006.01) B01D 53/86 (2006.01) 权利要求书1页 说明书6页 附图6页 (54)发明名称 一种原位生成Bi单质协同氧缺陷的硫酸氧 铋光催化剂 (57)摘要 本发明属于光催化技术领域，公开了一种原 位生成Bi单质协同氧缺陷的硫酸氧铋光催化剂， 原位生成Bi单质协同氧缺陷的硫酸氧铋光催化 剂是由含硫化合物与含铋硝酸盐混合后经固相 研磨退火，再原位还原而成，由Bi单质、氧缺陷和 硫酸氧铋三相构成。本发明的催化剂应用于光催 化去除氮氧化物；Bi单质协同氧缺陷的硫酸氧铋 的成功构建，有效利用Bi金属的SPR

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