发明

涂布型有机膜形成用组成物、图案形成方法、聚合物、以及聚合物的制造方法

2023-06-23 07:32:16 发布于四川 0
  • 申请专利号:CN202110240480.9
  • 公开(公告)日:2025-01-24
  • 公开(公告)号:CN113359390A
  • 申请人:信越化学工业株式会社
摘要:本发明涉及涂布型有机膜形成用组成物、图案形成方法、聚合物、以及聚合物的制造方法。本发明的课题是提供一种组成物,是可形成图案弯曲耐性高、干蚀刻耐性高的有机膜的涂布型有机膜形成用组成物,且溶剂溶解性优异,缺陷的发生率低。本发明提供一种涂布型有机膜形成用组成物,其特征为含有:以下列通式(1)表示的结构作为部分结构的聚合物;及有机溶剂。式(1)中,环结构Ar1及Ar2表示亦可具有取代基的苯环或萘环,W1为亦可具有取代基的碳数6~30的芳基。

专利内容

(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 113359390 A (43)申请公布日 2021.09.07 (21)申请号 202110240480.9 C08G 61/02 (2006.01) (22)申请日 2021.03.04 (30)优先权数据 2020-038165 2020.03.05 JP (71)申请人 信越化学工业株式会社 地址 日本东京都 (72)发明人 新井田惠介 郡大佑 山本靖之  中原贵佳 荻原勤  (74)专利代理机构 北京林达刘知识产权代理事 务所(普通合伙) 11277 代理人 刘新宇 李茂家 (51)Int.Cl. G03F 7/004 (2006.01) G03F 7/09 (2006.01) G03F 7/11 (2006.01) 权利要求书4页 说明书46页 附图1页 (54)发明名称 涂布型有机膜形成用组成物、图案形成方 法、聚合物、以及聚合物的制造方法 (57)摘要 本发明涉及涂布型有机膜形成用组成物、图 案形成方法、聚合物、以及聚合物的制造方法。本 发明的课题是提供一种组成物,是可形成图案弯 曲耐性高、干蚀刻耐性高的有机膜的涂布型有机 膜形成用组成物,且溶剂溶解性优异,缺陷的发 生率低。本发明提供一种涂布型有机膜形成用组 成物,其特征为含有:以下列通式(1)表示的结构 作为部分结构的聚合物;及有机溶剂。

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