一种基于AFM的十纳米多能场加工装置及加工方法
- 申请专利号:CN202210178690.4
- 公开(公告)日:2023-11-17
- 公开(公告)号:CN114634154A
- 申请人:武汉大学
专利内容
(19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 114634154 A (43)申请公布日 2022.06.17 (21)申请号 202210178690.4 (22)申请日 2022.02.25 (71)申请人 武汉大学 地址 430072 湖北省武汉市武昌区珞珈山 武汉大学 (72)发明人 胡耀武 胡益忠 张啸寒 夏敏 (74)专利代理机构 武汉科皓知识产权代理事务 所(特殊普通合伙) 42222 专利代理师 鲁力 (51)Int.Cl. B82B 3/00 (2006.01) B82Y 40/00 (2011.01) G01Q 60/38 (2010.01) 权利要求书2页 说明书4页 附图2页 (54)发明名称 一种基于AFM的十纳米多能场加工装置及加 工方法 (57)摘要 本发明公开了一种基于AFM的十纳米多能场 加工装置及加工方法。该加工装置包括原子力显 微镜加工与成像模块、高强度激光发生与控制模 块及电物理场产生与控制模块。本发明通过激光 与电物理场耦合产生局域场增强效应,作用于特 殊强化处理后的探针针尖与样品表面,然后借助 原子力显微镜纳米级的探针运动控制功能,控制 扫描探针通过光、电、热、力等多种能场作用在样 品表面进行去除或改性。通过上述开发的光、电、 热和力耦合的混合匹配光刻策略,可有效得到去 除或改性效果、减缓探针针尖磨损速度并大幅提 A 高加工精度和加工效率。 4 5 1 4 3 6 4 1 1