发明

10.6μm激光高透过的红外低辐射材料2024

2024-01-08 07:16:22 发布于四川 1
  • 申请专利号:CN202311353556.4
  • 公开(公告)日:2024-09-27
  • 公开(公告)号:CN117348124A
  • 申请人:苏州光晶航空科技有限公司
摘要:本发明公开了10.6μm激光高透过的红外低辐射材料,包括玻璃基材,位于玻璃基材的一侧的激光减反射膜,以及位于玻璃基材的另一侧的一维光子晶体,一维光子晶体为竖向多层分布,一维光子晶体内设置有缺陷层,且激光减反射膜和一维光子晶体的最外层均设置有类金刚石保护膜,一维光子晶体包括交替排列的高折射率材料层和低折射率材料层;本发明具有10.6μm激光透过率≥99%,8μm‑14μm红外波段平均辐射率≤0.15,良好的疏水和疏油性能、良好的耐候性等特点,可用于10.6μm激光窗口的红外特征抑制。

专利内容

(19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 117348124 A (43)申请公布日 2024.01.05 (21)申请号 202311353556.4 (22)申请日 2023.10.18 (71)申请人 济南能谱航空科技有限公司 地址 250098 山东省济南市高新区崇华路 以东世纪财富中心C座1113室 (72)发明人 于媛媛 李长平  (74)专利代理机构 北京京专专利代理事务所 (普通合伙) 11908 专利代理师 赵德新 (51)Int.Cl. G02B 1/115 (2015.01) G02B 1/14 (2015.01) G02B 1/00 (2006.01) 权利要求书1页 说明书5页 附图1页 (54)发明名称 10.6 μm激光高透过的红外低辐射材料 (57)摘要 本发明公开了10.6 μm激光高透过的红外低 辐射材料,包括玻璃基材,位于玻璃基材的一侧 的激光减反射膜,以及位于玻璃基材的另一侧的 一维光子晶体,一维光子晶体为竖向多层分布, 一维光子晶体内设置有缺陷层,且激光减反射膜 和一维光子晶体的最外层均设置有类金刚石保 护膜,一维光子晶体包括交替排列的高折射率材 料层和低折射率材料层;本发明具有10.6 μm激 光透过率≥99%,8 μm‑14μm红外波段平均辐射 率≤0.15,良好的疏水和疏油性能、良好的耐候 性等特点,可用于10.6 μm激光窗口的红外特征 抑制。 A 4 2 1 8 4 3 7

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