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电子器件及制备方法、测试电路及制备方法、测试方法2023

2023-12-17 07:15:45 发布于四川 0
  • 申请专利号:CN202311161764.4
  • 公开(公告)日:2023-12-08
  • 公开(公告)号:CN117185252A
  • 申请人:北京大学
摘要:本公开提供了电子器件及制备方法、测试电路及制备方法、测试方法,电子器件包括基底和形成于基底表面的纳米电极对,纳米电极对至少包括两个纳米电极,两个纳米电极之间具有纳米间隙,两个纳米电极相向地布置。通过改变纳米电极的组成及形貌参数,或在纳米电极表面修饰形成包覆层来稳定纳米电极在界面处的原子,降低原子摆脱晶格束缚并在基底表面定向运动的可能性;或者刻蚀纳米间隙底部的二氧化硅基底,阻断原子的迁移路径。从而有效抑制原子迁移,实现对载流子输运过程的调控。

专利内容

(19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 117185252 A (43)申请公布日 2023.12.08 (21)申请号 202311161764.4 (22)申请日 2023.09.08 (71)申请人 北京大学 地址 100871 北京市海淀区颐和园路5号 (72)发明人 孙伟 陈雅鸿 王可心 邓欣宇  (74)专利代理机构 北京庚致知识产权代理事务 所(特殊普通合伙) 11807 专利代理师 李伟波 (51)Int.Cl. B82B 3/00 (2006.01) B82Y 40/00 (2006.01) H01B 5/00 (2011.01) H01B 1/02 (2006.01) G01R 31/00 (2006.01) 权利要求书3页 说明书22页 附图12页 (54)发明名称 电子器件及制备方法、测试电路及制备方 法、测试方法 (57)摘要 本公开提供了电子器件及制备方法、测试电 路及制备方法、测试方法,电子器件包括基底和 形成于基底表面的纳米电极对,纳米电极对至少 包括两个纳米电极,两个纳米电极之间具有纳米 间隙,两个纳米电极相向地布置。通过改变纳米 电极的组成及形貌参数,或在纳米电极表面修饰 形成包覆层来稳定纳米电极在界面处的原子,降 低原子摆脱晶格束缚并在基底表面定向运动的 可能性;或者刻蚀纳米间隙底部的二氧化硅基 底,阻断原子的迁移路径。从而有效抑制原子迁 移,实现对载流子输运过程的调控。 A 2 5

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