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发明

用于确定性能参数的指纹的方法和设备

2023-06-03 12:21:44 发布于四川 1
  • 申请专利号：CN202110018882.4
  • 公开（公告）日：2024-11-05
  • 公开（公告）号：CN112631086A
  • 申请人：ASML荷兰有限公司
摘要：光刻过程是一种将所需图案施加到衬底上(通常在衬底的目标部分上)的工艺。在光刻过程中，需要控制聚焦。公开了一种用于确定与衬底相关的性能参数的指纹的方法，例如在光刻过程期间要使用的聚焦值。确定参考衬底的性能参数的参考指纹。确定参考衬底的参考衬底参数。确定衬底(例如具有产品结构的衬底)的衬底参数。随后，基于参考指纹、参考衬底参数和衬底参数确定性能参数的指纹。然后可以使用指纹来控制光刻过程。

专利内容

(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 112631086 A (43)申请公布日 2021.04.09 (21)申请号 202110018882.4 (74)专利代理机构 中科专利商标代理有限责任 公司 11021 (22)申请日 2017.06.22 代理人 王静 (30)优先权数据 (51)Int.Cl. 16178809.6 2016.07.11 EP G03F 7/20 (2006.01) 16195549.7 2016.10.25 EP H01L 21/027 (2006.01) (62)分案原申请数据 201780043341.9 2017.06.22 (71)申请人 ASML荷兰有限公司 地址 荷兰维德霍温 (72)发明人 L ·M ·A ·范德洛格特　 B ·P ·B ·西哥斯　 S ·H ·C ·范格尔佩　 C ·C ·M ·卢伊滕　F ·斯塔尔斯　 权利要求书1页 说明书18页 附图6页 (54

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