光源装置、投影仪和光强度分布均匀化方法

专利内容

(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 114072729 A (43)申请公布日 2022.02.18 (21)申请号 201980098314.0 (51)Int.Cl. G03B 21/14 (2006.01) (22)申请日 2019.07.12 G03B 21/00 (2006.01) (85)PCT国际申请进入国家阶段日 H04N 5/74 (2006.01) 2022.01.07 (86)PCT国际申请的申请数据 PCT/JP2019/027639 2019.07.12 (87)PCT国际申请的公布数据 WO2021/009790 JA 2021.01.21 (71)申请人 夏普NEC显示器解决方案株式会社 地址 日本东京 (72)发明人 片山広海　近久慎一郎　 (74)专利代理机构 中原信达知识产权代理有限 责任公司 11219 代理人 李兰　孙志湧 权利要求书2页 说明书10页 附图7页 (54)发明名称 光源装置、投影仪和光强度分布均匀化方法 (57)摘要 本光源装置产生进入微透镜阵列的激光，该 微透镜