一种采用磁流体密封处理的用于真空镀膜的敲击装置

专利内容

(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 113073296 A (43)申请公布日 2021.07.06 (21)申请号 202110297842.8 (22)申请日 2021.03.19 (71)申请人 安徽纯源镀膜科技有限公司 地址 230088 安徽省合肥市高新区永和路 99号一天电气F厂房101-A区 (72)发明人 张心凤　夏正卫　刘洋　陈玉梅　 范洪跃　 (74)专利代理机构 合肥九道和专利代理事务所 (特殊普通合伙) 34154 代理人 胡发丁 (51)Int.Cl. C23C 14/34 (2006.01) C23C 14/56 (2006.01) 权利要求书1页 说明书4页 附图3页 (54)发明名称 一种采用磁流体密封处理的用于真空镀膜 的敲击装置 (57)摘要 本发明涉及一种采用磁流体密封处理的用 于真空镀膜的敲击装置，包括敲击杆，敲击杆的 一端装配有敲击碳头，敲击杆的另一端装配在转 动杆的一端，敲击杆和转动杆呈夹角状布置，转 动杆转动安装，转动杆上设置有磁流体组件，转 动杆与调节其进行转动的转动调节组件相连接。 上述方案中，将敲击装置的传统油封结构更换为 磁流体密封结构，可以解决敲击杆部位漏气的问 题。 A 6 9 2 3 7 0 3 1 1 N C CN 113073296 A 权　利　要　求　书