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PCT发明

测量方法和设备

2023-06-03 12:09:53 发布于四川 1
  • 申请专利号：CN201980055729.X
  • 公开（公告）日：2024-08-13
  • 公开（公告）号：CN112639611A
  • 申请人：ASML荷兰有限公司
摘要：一种控制使用合格化的光学邻近效应校正(OPC)模型的成像过程的方法，所述方法包括：获取OPC模型，所述OPC模型被配置成在用于在图案化过程中使用后OPC设计在衬底上形成图案的过程中对预OPC设计的OPC修改的行为进行建模；在制造环境中使用所述图案化过程；收集在所述制造环境中使用所述图案化过程被图案化的衬底中的过程控制数据；将收集到的过程控制数据储存在数据库中；通过硬件计算机系统分析所储存的收集到的过程控制数据，以验证所述OPC模型是在所选阈值内的校正图案特征；以及对于落入所选阈值外的图案特征，确定对所述成像过程的修改以校正成像误差。

专利内容

(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 112639611 A (43)申请公布日 2021.04.09 (21)申请号 201980055729.X (74)专利代理机构 中科专利商标代理有限责任 公司 11021 (22)申请日 2019.08.12 代理人 张启程 (30)优先权数据 (51)Int.Cl. 62/725,631 2018.08.31 US G03F 1/36 (2006.01) (85)PCT国际申请进入国家阶段日 G03F 7/20 (2006.01) 2021.02.24 (86)PCT国际申请的申请数据 PCT/EP2019/071615 2019.08.12 (87)PCT国际申请的公布数据 WO2020/043474 EN 2020.03.05 (71)申请人 ASML荷兰有限公司 地址 荷兰维德霍温 (72)发明人 克里斯多夫 ·艾伦 ·斯彭斯　 权利要求书1页 说明书2

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