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PCT发明

用于印刷具有变化的占宽比的周期性图案的方法和装置

2023-07-06 11:04:07 发布于四川 0
  • 申请专利号：CN202080039223.2
  • 公开（公告）日：2024-10-29
  • 公开（公告）号：CN113841072A
  • 申请人：尤利塔股份公司
摘要：一种用于在光刻胶层中形成具有期望的占宽比的空间变化的表面浮雕光栅的方法，该方法包括：提供带有线性特征的高分辨率光栅（32）的第一掩模（31），将所述第一掩模布置在距衬底（33）第一距离处，提供带有具有设计的占宽比的空间变化的不透明和透明线性特征的可变透射光栅（27）的第二掩模（28），将所述第二掩模布置在第一掩模之前的一定距离处，使得可变透射光栅的线性特征与高分辨率光栅的线性特征正交，照射第二掩模，同时根据位移Talbot光刻法改变第一距离，并且还将第二掩模相对于其线性特征以一定角度位移，使得在曝光光刻胶的能量密度分布中基本上不存在具有可变透射光栅的周期的调制的分量。

专利内容

(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 113841072 A (43)申请公布日 2021.12.24 (21)申请号 202080039223.2 (74)专利代理机构 中国专利代理(香港)有限公 司 72001 (22)申请日 2020.03.27 代理人 钟茂建　陈岚 (30)优先权数据 (51)Int.Cl. 62/824508 2019.03.27 US G02B 5/18 (2006.01) 62/923744 2019.10.21 US G02B 5/32 (2006.01) (85)PCT国际申请进入国家阶段日 G02B 27/00 (2006.01) 2021.11.26 G02B 27/09 (2006.01) (86)PCT国际申请的申请数据 G03F 7/20 (2006.01) PCT/IB2020/052954 2020.03.27

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