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PCT发明

包含二氰基苯乙烯基的能够湿蚀刻的抗蚀剂下层膜形成用组合物

2023-04-24 09:23:58 发布于四川 1
  • 申请专利号：CN202080044359.2
  • 公开（公告）日：2024-08-16
  • 公开（公告）号：CN113994263A
  • 申请人：日产化学株式会社
摘要：本发明提供对抗蚀剂溶剂、作为碱水溶液的抗蚀剂显影液显示良好的耐性，同时仅对湿蚀刻药液显示除去性、且优选显示溶解性的抗蚀剂下层膜。一种抗蚀剂下层膜形成用组合物，其包含具有二氰基苯乙烯基的聚合物(P)或具有二氰基苯乙烯基的化合物(C)，且包含溶剂，不包含由三聚氰胺、脲、苯胍胺、或甘脲衍生的烷基化氨基塑料交联剂，且不包含质子酸固化催化剂。

专利内容

(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 113994263 A (43)申请公布日 2022.01.28 (21)申请号 202080044359.2 (74)专利代理机构 北京市中咨律师事务所 11247 (22)申请日 2020.06.17 代理人 马妮楠　段承恩 (30)优先权数据 (51) Int.C l. 2019-111916 2019.06.17 JP G03F 7/11 (2006.01) (85)PCT国际申请进入国家阶段日 G03F 7/42 (2006.01) 2021.12.16 H01L 21/027 (2006.01) (86)PCT国际申请的申请数据 PCT/JP2020/023671 2020.06.17 (87)PCT国际申请的公布数据 WO2020/255985 JA 2020.12.24 (71)申请人 日产化学株式会社 地址 日本东京都 (72)发明人 远藤贵文　远

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