压印衬底及压印方法
- 申请专利号:CN202111366654.2
- 公开(公告)日:2024-08-16
- 公开(公告)号:CN114002915A
- 申请人:北京驭光科技发展有限公司
专利内容
(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 114002915 A (43)申请公布日 2022.02.01 (21)申请号 202111366654.2 (22)申请日 2021.11.18 (71)申请人 北京驭光科技发展有限公司 地址 100083 北京市海淀区知春路23号6层 609室 (72)发明人 徐琦 张国伟 刘博 蒋超 田克汉 王淼 (74)专利代理机构 北京律和信知识产权代理事 务所(普通合伙) 11446 代理人 郝文博 (51)Int.Cl. G03F 7/00 (2006.01) G02B 3/00 (2006.01) G02B 5/18 (2006.01) 权利要求书2页 说明书9页 附图5页 (54)发明名称 压印衬底及压印方法 (57)摘要 本发明提供一种压印衬底,用于固定于压印 设备的载物台上,压印衬底为用于制备衍射光学 元件或微透镜阵列的压印衬底,压印衬底包括: 功能部和稳定部,功能部用于涂覆光固化或热固 化胶水,功能部具有厚度均匀的有效区和包围有 效区的无效区,有效区用于作为纳米压印图形的 承载区域。稳定部固定设置于功能部的无效区 上,且稳定部的厚度大于功能部的厚度。本发明 的实施例利用稳定部的重力抵抗胶水固化过程 中的内缩应力,避免了衬底翘曲变形,提高了产 品的合格率,进而为选择大尺寸超薄衬底提供了 条件。同时,本发明还提供了一种压印方法,依靠 A 前述的压印衬底进行纳米压