一种具有双真空室的真空灭弧室结构2024

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(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 108565178 A (43)申请公布日 2018.09.21 (21)申请号 201810645520.6 (22)申请日 2018.06.21 (71)申请人 中国振华电子集团宇光电工有限公 司（国营第七七一厂） 地址 550018 贵州省贵阳市乌当区新添大 道北段272号 (72)发明人 张毅　冉园园　高春晖　甘巍　 (74)专利代理机构 北京联创佳为专利事务所 (普通合伙) 11362 代理人 韩炜 (51)Int.Cl. H01H 33/664(2006.01) 权利要求书1页 说明书3页 附图2页 (54)发明名称 一种具有双真空室的真空灭弧室结构 (57)摘要 本发明公开了一种双真空室真空灭弧室，包 括外真空室（1）和内真空室（2），内真空室（2）设 在外真空室（1）中；还包括静端件（3）和的动端件 （4），静端件（3）由下至上依次穿过外真空室（1） 和内真空室（2），动端件（4）由上至下依次穿过外 真空室（1）和内真空室（2）。本发明具有两个真空 室的灭弧室，可降低出现漏气时或低真空问题的 概率，提高产品的可靠性，避免真空灭弧室的开 断能力受影响，大幅提高了真空灭弧室的使用寿 命。 A 8 7 1 5 6 5 8 0 1 N C CN 108565178 A