发明

非接触式晶圆台清洗装置、方法及其清洗检验装置、方法

2023-06-11 11:34:43 发布于四川 0
  • 申请专利号:CN202111467132.1
  • 公开(公告)日:2025-06-13
  • 公开(公告)号:CN116213361A
  • 申请人:成都高真科技有限公司
摘要:本发明公开了一种非接触式晶圆台清洗装置、方法及其清洗检验装置、方法,清洗装置位于晶圆台正上方,清洗装置包括吹气喷嘴,以及围绕吹气喷嘴周向设置的遮挡罩,遮挡罩与吹气喷嘴在晶圆台上的投影位置位于晶圆在晶圆台上的投影位置内。本发明采用非接触方式来对晶圆台进行清洗,避免了对晶圆台的磨耗;清洗之后,无需要采用裸晶圆进行验证,采用本发明方案可以立即晶圆台进行清洁度的确认。

专利内容

(19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 116213361 A (43)申请公布日 2023.06.06 (21)申请号 202111467132.1 (22)申请日 2021.12.02 (71)申请人 成都高真科技有限公司 地址 610000 四川省成都市高新区科新路8 号附19号 (72)发明人 金成昱 梁贤石  (74)专利代理机构 成都行之专利代理事务所 (普通合伙) 51220 专利代理师 喻英 (51)Int.Cl. B08B 5/02 (2006.01) B08B 13/00 (2006.01) G01D 21/00 (2006.01) G01L 13/00 (2006.01) H01L 21/67 (2006.01) 权利要求书2页 说明书6页 附图1页 (54)发明名称 非接触式晶圆台清洗装置、方法及其清洗检 验装置、方法 (57)摘要 本发明公开了一种非接触式晶圆台清洗装 置、方法及其清洗检验装置、方法,清洗装置位于 晶圆台正上方,清洗装置包括吹气喷嘴 ,以及围 绕吹气喷嘴周向设置的遮挡罩,遮挡罩与吹气喷 嘴在晶圆台上的投影位置位于晶圆在晶圆台上 的投影位置内。本发明采用非接触方式来对晶圆 台进行清洗,避免了对晶圆台的磨耗;清洗之后, 无需要采用裸晶圆进行验证,采用本发明方案可 以立即晶圆台进行清洁度的确认。 A 1 6 3 3 1 2 6 1 1

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