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一种测井井眼环境校正方法、系统、装置与介质2025

2024-04-07 07:22:48 发布于四川 5
  • 申请专利号:CN202311486504.4
  • 公开(公告)日:2025-11-11
  • 公开(公告)号:CN117826261A
  • 申请人:广州海洋地质调查局
摘要:本申请公开了一种测井井眼环境校正方法、系统、装置和介质,方法包括步骤:获取测井的初始地层密度、井眼垮塌深度、泥质含量和密度、短长源距探测深度、泥浆密度、岩石骨架密度、孔隙流体密度以及孔隙度;根据长源距探测深度、井眼垮塌深度、泥浆密度、岩石骨架密度、孔隙流体密度以及孔隙度,确定长源距探测器的密度响应参数;根据短源距探测深度、井眼垮塌深度、泥浆密度、岩石骨架密度、孔隙流体密度以及孔隙度,确定短源距探测器的密度响应参数;根据长源距探测深度、短源距探测深度、两个密度响应参数,确定纯地层密度;根据初始地层密度、泥质含量、泥质密度以及纯地层密度,确定校正后的地层密度。本申请可广泛应用于钻井测量技术领域。

专利内容

(19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 117826261 A (43)申请公布日 2024.04.05 (21)申请号 202311486504.4 (22)申请日 2023.11.08 (71)申请人 广州海洋地质调查局 地址 510000 广东省广州市南沙区环市大 道南25号南沙科技创新中心A4栋2楼 208-218房 (72)发明人 钟超 陆敬安 康冬菊 谢莹峰  余晗  (74)专利代理机构 广州嘉权专利商标事务所有 限公司 44205 专利代理师 任宇杭 (51)Int.Cl. G01V 1/50 (2006.01) G01V 1/36 (2006.01) 权利要求书3页 说明书12页 附图8页 (54)发明名称 一种测井井眼环境校正方法、系统、装置与 介质 (57)摘要 本申请公开了一种测井井眼环境校正方法、 系统、装置和介质,方法包括步骤:获取测井的初 始地层密度、井眼垮塌深度、泥质含量和密度、短 长源距探测深度、泥浆密度、岩石骨架密度、孔隙 流体密度以及孔隙度;根据长源距探测深度、井 眼垮塌深度、泥浆密度、岩石骨架密度、孔隙流体 密度以及孔隙度,确定长源距探测器的密度响应 参数;根据短源距探测深度、井眼垮塌深度、泥浆 密度、岩石骨架密度、孔隙流体密度以及孔隙度, 确定短源距探测器的密度响应参数;根据长源距 探测深度、短源距探测深度、两个密度响应参数, A 确定纯地层密度;根据初始地层密度、泥质

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