IGZO基板用剥离液组合物、其制备方法及半导体器件2024

专利内容

(19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 117784538 A (43)申请公布日 2024.03.29 (21)申请号 202311057833.7 (22)申请日 2023.08.22 (30)优先权数据 10-2022-0124081 2022.09.29 KR (71)申请人 易安爱富科技有限公司 地址 韩国京畿道 (72)发明人 金世训　曹长佑　朴峻贤　朴钟模　 沈何频　尹俊植　李承恩　李东训　 (74)专利代理机构 成都超凡明远知识产权代理 有限公司 51258 专利代理师 洪玉姬 (51)Int.Cl. G03F 7/42 (2006.01) 权利要求书2页 说明书11页 (54)发明名称 IGZO基板用剥离液组合物、其制备方法及半 导体器件 (57)摘要 本发明涉及一种用于剥离IGZO基板的光刻 胶的组合物、其制备方法及半导体器件。根据本 发明，可以防止IGZO基板的腐蚀，并且可以改善 光刻胶剥离性能。 A 8 3 5 4 8 7 7 1 1 N C CN 117784538 A 权　利　要　求　书 1/2页 1.一种IGZO基板用剥离液组合物，其中， 包含： 两种以上的有机溶剂，以及 以化学式1或化学式2表示的胺化合物； [化学式1] R ‑NH 1 2