发明

一种利用图形化衬底压印制备石墨烯纳米网的方法

2023-06-14 12:52:07 发布于四川 1
  • 申请专利号:CN202110377003.7
  • 公开(公告)日:2024-07-02
  • 公开(公告)号:CN113104809A
  • 申请人:德州学院
摘要:本发明涉及一种利用图形化衬底压印制备石墨烯纳米网的方法,其主要步骤包括:衬底/Gr制备、图形化衬底的清洗、衬底/Gr与图形化衬底的组装、压印、脱模和GNM表征。对比现有的GNM制备方法,本发明利用图形化衬底中的凸起图案在压印过程中将Gr穿透,可实现快速、大面积、均匀、低成本、高孔隙率、低缺陷GNM的制备。根据图形化衬底的选取,可实现多种图案及尺寸的GNM制备。另外,本发明所采用的方法普适性高,可以迁移至除Gr以外其他二维材料如MoS2、BN等纳米网的制备。

专利内容

(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 113104809 A (43)申请公布日 2021.07.13 (21)申请号 202110377003.7 (22)申请日 2021.04.08 (71)申请人 德州学院 地址 253023 山东省德州市德城区大学西 路566号 (72)发明人 贾冉 许士才 刘汉平 刘辉兰  乔梅 刘国锋  (74)专利代理机构 济南金迪知识产权代理有限 公司 37219 代理人 杨树云 (51)Int.Cl. B81C 1/00 (2006.01) B82Y 40/00 (2011.01) G03F 7/00 (2006.01) 权利要求书1页 说明书6页 附图7页 (54)发明名称 一种利用图形化衬底压印制备石墨烯纳米 网的方法 (57)摘要 本发明涉及一种利用图形化衬底压印制备 石墨烯纳米网的方法,其主要步骤包括:衬底/Gr 制备、图形化衬底的清洗、衬底/Gr与图形化衬底 的组装、压印、脱模和GNM表征。对比现有的GNM制 备方法,本发明利用图形化衬底中的凸起图案在 压印过程中将Gr穿透,可实现快速、大面积、均 匀、低成本、高孔隙率、低缺陷GNM的制备。根据图 形化衬底的选取,可实现多种图案及尺寸的GNM 制备。另外,本发明所采用的方法普适性高,可以 迁移至除Gr以外其他二维材料如MoS 、BN等纳米 2 网的制备。

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