发明

一种基于TSV的晶圆级MEMS气体传感器阵列、制备方法及应用

2023-06-05 18:01:57 发布于四川 0
  • 申请专利号:CN202011592356.0
  • 公开(公告)日:2024-04-19
  • 公开(公告)号:CN112694062A
  • 申请人:华中科技大学
摘要:本发明公开了一种基于TSV的晶圆级MEMS气体传感器阵列、制备方法及应用,属于气体检测技术领域。阵列包括阵列式排布的基于TSV的晶圆级MEMS气体传感器,每个气体传感器包括硅晶圆基片以及自下而上排布在在硅晶圆基片上的ONO介质层、加热电极、绝缘层、测试电极和气敏材料,加热电极和测试电极均通过硅通孔引至硅晶圆基片的下表面。本发明提供的气体传感器阵列能够降低成本,缩小器件尺寸,提高器件性能稳定性和一致性,实现传感器阵列,并降低器件功耗。

专利内容

(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 112694062 A (43)申请公布日 2021.04.23 (21)申请号 202011592356.0 (22)申请日 2020.12.29 (71)申请人 华中科技大学 地址 430074 湖北省武汉市洪山区珞喻路 1037号 (72)发明人 段国韬 张征  (74)专利代理机构 华中科技大学专利中心 42201 代理人 李智 (51)Int.Cl. B81B 7/02 (2006.01) B81C 1/00 (2006.01) 权利要求书1页 说明书5页 附图8页 (54)发明名称 一种基于TSV的晶圆级MEMS气体传感器阵 列、制备方法及应用 (57)摘要 本发明公开了一种基于TSV的晶圆级MEMS气 体传感器阵列、制备方法及应用,属于气体检测 技术领域。阵列包括阵列式排布的基于TSV的晶 圆级MEMS气体传感器,每个气体传感器包括硅晶 圆基片以及自下而上排布在在硅晶圆基片上的 ONO介质层、加热电极、绝缘层、测试电极和气敏 材料,加热电极和测试电极均通过硅通孔引至硅 晶圆基片的下表面。本发明提供的气体传感器阵 列能够降低成本,缩小器件尺寸,提高器件性能 稳定性和一致性,实现传感器阵列,并降低器件 功耗。 A 2 6 0 4 9 6 2 1 1 N C CN 112694062 A 权 利 要 求 书

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