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PCT发明

在检查光刻过程的元件中评估统计分布的测量值的方法和装置

2023-05-28 13:41:46 发布于四川 2
  • 申请专利号：CN201980045278.1
  • 公开（公告）日：2025-04-15
  • 公开（公告）号：CN112384855A
  • 申请人：卡尔蔡司SMT有限责任公司
摘要：本发明涉及一种用于在检查光刻过程的元件(810)中评估统计分布的测量值(100、300、350)的方法(900)，其包括以下步骤：(a)在训练的机器学习模型(700)中使用多个参数(730)，其中，在与测量值(100、300、350)的测量相关联的时间段中参数(730)表征测量环境(880)的状态；以及(b)执行训练的机器学习模型(700)以便评估测量值(100、300、350)。

专利内容

(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 112384855 A (43)申请公布日 2021.02.19 (21)申请号 201980045278.1 (74)专利代理机构 北京市柳沈律师事务所 11105 (22)申请日 2019.07.05 代理人 王蕊瑞 (30)优先权数据 (51)Int.Cl. 102018211099.9 2018.07.05 DE G03F 1/84 (2006.01) (85)PCT国际申请进入国家阶段日 G06N 3/02 (2006.01) 2021.01.05 G03F 7/20 (2006.01) (86)PCT国际申请的申请数据 PCT/EP2019/068067 2019.07.05 (87)PCT国际申请的公布数据 WO2020/008021 DE 2020.01.09 (71)申请人 卡尔蔡司SMT有限责任公司 地址 德国上科亨 (72)发明

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