发明

碳化硅晶体生长方法和长晶装置2024

2023-10-01 07:17:43 发布于四川 2
  • 申请专利号:CN202310770372.1
  • 公开(公告)日:2024-08-16
  • 公开(公告)号:CN116815319A
  • 申请人:通威微电子有限公司
摘要:本发明的实施例提供了一种碳化硅晶体生长方法和长晶装置涉及半导体及时领域。碳化硅晶体生长方法包括以下步骤:(1)组装阶段;(2)除杂升温阶段;(3)形核阶段:根据第一温度传感器和第二温度传感器的温度得到坩埚顶部的边缘与中心的实际温差;依据实际温差和第一预设温差范围控制修饰加热器向着远离坩埚或靠近坩埚的方向移动,以使坩埚顶部的中心与边缘的实际温差在第一温差预设范围内,且使坩埚顶部中心的温度低于边缘的温度,让碳化硅原料气相传输至籽晶处形核;(4)生长阶段。其能够在形核阶段更好地调节籽晶区环形温场,以提高了晶体生长质量与生长速率。

专利内容

(19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 116815319 A (43)申请公布日 2023.09.29 (21)申请号 202310770372.1 (22)申请日 2023.06.27 (71)申请人 通威微电子有限公司 地址 610299 四川省成都市双流区成都芯 谷产业园区集中区内 (72)发明人 杨光宇  (74)专利代理机构 北京超凡宏宇知识产权代理 有限公司 11463 专利代理师 曹灿 (51)Int.Cl. C30B 29/36 (2006.01) C30B 23/00 (2006.01) 权利要求书2页 说明书7页 附图3页 (54)发明名称 碳化硅晶体生长方法和长晶装置 (57)摘要 本发明的实施例提供了一种碳化硅晶体生 长方法和长晶装置涉及半导体及时领域。碳化硅 晶体生长方法包括以下步骤:(1)组装阶段;(2) 除杂升温阶段;(3)形核阶段:根据第一温度传感 器和第二温度传感器的温度得到坩埚顶部的边 缘与中心的实际温差;依据实际温差和第一预设 温差范围控制修饰加热器向着远离坩埚或靠近 坩埚的方向移动,以使坩埚顶部的中心与边缘的 实际温差在第一温差预设范围内,且使坩埚顶部 中心的温度低于边缘的温度,让碳化硅原料气相 传输至籽晶处形核;(4)生长阶段。其能够在形核 阶段更好地调节籽晶区环形温场,以提高了晶体 A 生长质量与生长速率。 9 1 3 5 1 8 6 1 1 N C CN 116815319

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