光掩膜版及其制备方法2024

专利内容

(19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 117850157 A (43)申请公布日 2024.04.09 (21)申请号 202410041670.1 (22)申请日 2024.01.10 (71)申请人 无锡迪思微电子有限公司 地址 214135 江苏省无锡市太湖国际科技 园菱湖大道180号-6 申请人 华润微电子控股有限公司 (72)发明人 徐佳　宋晓辉　梁明晓　 (74)专利代理机构 华进联合专利商标代理有限 公司 44224 专利代理师 虞凌霄 (51)Int.Cl. G03F 1/60 (2012.01) 权利要求书1页 说明书9页 附图2页 (54)发明名称 基板结构、光掩膜版及其制备方法 (57)摘要 本申请涉及一种基板结构、光掩膜版及其制 备方法，基板结构包括：透明基板，所述透明基板 具有封闭的中空腔；以及透明液体，填充于所述 中空腔内；所述透明液体用于透过投射在所述透 明基板上的光线。本申请通过在透明基板中设置 封闭的中空腔，并且在中空腔中设置透明液体。 如此，在光刻时，光刻机的光线会透过透明基板 中的透明液体，相较于传统技术，改变了光刻机 的光线的传播路径中的介质，从而改善光刻工艺 中的因子参数，进而有利于提高光刻分辨率，达 到提升光刻精度和解析度的目的。 A 7 5 1 0 5 8 7 1 1 N C CN 117850157 A 权　利　要　求　书