一种光掩模曝光方法

专利内容

(19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 114815517 A (43)申请公布日 2022.07.29 (21)申请号 202210403500.4 (22)申请日 2022.04.18 (71)申请人 广州新锐光掩模科技有限公司 地址 510555 广东省广州市(中新广州知识 城）亿创街1号406房之518 (72)发明人 施维　郑怀志　 (74)专利代理机构 北京清大紫荆知识产权代理 有限公司 11718 专利代理师 郑纯　黎飞鸿 (51)Int.Cl. G03F 7/20 (2006.01) 权利要求书1页 说明书4页 附图3页 (54)发明名称 一种光掩模曝光方法 (57)摘要 本申请提供了一种光掩模曝光方法，属于电 子束曝光技术领域，该方法包括：对预处理图形 进行图形识别；根据图形尺寸将所述预处理图形 分为第一图形区和第二图形区，所述第一图形区 为大尺寸图形，所述第二图形区为精密图形；将 所述第一图形区和所述第二图形区进行切割；对 所述第一图形区通过不铺满以及无重叠的方式 进行曝光；对所述第二图形区进行精密曝光。通 过本申请的处理方案，有效降低了曝光时间，并 降低了生产成本。 A 7 1 5 5 1 8 4 1 1 N C CN 114815517 A 权　利　要　求　书 1/1页 1.一种光掩模曝光方法，其特征在于，所述方法包括：