发明

基于MEMS工艺的光纤式台阶型激光飞片换能元制备方法

2023-05-19 11:21:33 发布于四川 0
  • 申请专利号:CN202210437303.4
  • 公开(公告)日:2025-08-26
  • 公开(公告)号:CN114890377A
  • 申请人:南京理工大学
摘要:本发明公开了一种基于MEMS工艺的光纤式台阶型激光飞片换能元制备方法,包括如下步骤:首先将光纤端面预处理,包括抛光、清洗、烘干;再将光纤放入设计好的模具中,对光纤端面依次经过一次光刻(涂胶、曝光、显影),磁控溅射、去胶,制备出烧蚀层和隔热层;然后在一次光刻的薄膜上依次经过二次光刻、磁控溅射、去胶,制备出飞片层,获得光纤式台阶型激光飞片换能元。利用MEMS工艺制备的台阶型激光飞片换能元优势是将飞片薄膜直接镀在光纤端面,重复性好,成本低,且由于减少光纤输出端激光的发散,提高了光纤末端换能元的能量耦合效率。由于换能元台阶型,有效降低等离子体因飞片剪切造成的能量浪费,有利于降低光纤式激光飞片换能元的冲击起爆阈值。

专利内容

(19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 114890377 A (43)申请公布日 2022.08.12 (21)申请号 202210437303.4 (22)申请日 2022.04.21 (71)申请人 南京理工大学 地址 210094 江苏省南京市孝陵卫街200号 (72)发明人 袁浩方 吴立志 支天金 谢天宇  (74)专利代理机构 南京理工大学专利中心 32203 专利代理师 赵毅 (51)Int.Cl. B81C 1/00 (2006.01) F42C 13/02 (2006.01) 权利要求书1页 说明书3页 附图3页 (54)发明名称 基于MEMS工艺的光纤式台阶型激光飞片换 能元制备方法 (57)摘要 本发明公开了一种基于MEMS工艺的光纤式 台阶型激光飞片换能元制备方法,包括如下步 骤:首先将光纤端面预处理,包括抛光、清洗、烘 干;再将光纤放入设计好的模具中,对光纤端面 依次经过一次光刻(涂胶、曝光、显影),磁控溅 射、去胶,制备出烧蚀层和隔热层;然后在一次光 刻的薄膜上依次经过二次光刻、磁控溅射、去胶, 制备出飞片层,获得光纤式台阶型激光飞片换能 元。利用MEMS工艺制备的台阶型激光飞片换能元 优势是将飞片薄膜直接镀在光纤端面,重复性 好,成本低,且由于减少光纤输出端激光的发散, A 提高了光纤末端换能元的能量耦合效率。由于换 7 能元台阶型,有效降低等离子体因飞片剪切造成 7 3 0 的能量浪费,有利于降低光纤式激光飞片换能元 9 8 4 的

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