去除掩模版上污染颗粒的装置和方法

专利内容

(19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 114660903 A (43)申请公布日 2022.06.24 (21)申请号 202210154807.5 (22)申请日 2022.02.21 (71)申请人 上海华力集成电路制造有限公司 地址 201203 上海市浦东新区康桥东路298 号1幢1060室 (72)发明人 詹海娇　 (74)专利代理机构 上海浦一知识产权代理有限 公司 31211 专利代理师 郭四华 (51)Int.Cl. G03F 7/20 (2006.01) 权利要求书2页 说明书6页 附图3页 (54)发明名称 去除掩模版上污染颗粒的装置和方法 (57)摘要 本发明公开了一种去除掩模版上污染颗粒 的装置，设置有照明灯组；照明灯组包括一个网 格型光源的散光灯和一个聚光灯；散光灯开启 后，网格型光源照射到掩模版上并将掩模版划分 成多个第一网格，通过第一网格实现对掩模版上 的污染颗粒的粗定位；聚光灯开启后用于照射粗 定位对应的第一网格并实现对污染颗粒进行精 定位，通过精定位实现对污染颗粒的快速去除。 本发明还公开了一种去除掩模版上污染颗粒的 方法。本发明能对掩模版上的污染颗粒进行快速 定位，从而能对掩模版上的污染颗粒进行准确和 快速的清除，提高清除污染颗粒的效率，还能避 A 免二次污染以及降低掩模版多次开盒处理和返 3 厂送洗的概率。 0 9 0 6 6 4 1 1 N C CN 114660903 A