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发明

曝光装置和制造物品的方法

2023-05-10 11:31:54 发布于四川 1
  • 申请专利号：CN202210113165.4
  • 公开（公告）日：2024-08-27
  • 公开（公告）号：CN114488709A
  • 申请人：佳能株式会社
摘要：本发明涉及曝光装置和制造物品的方法。本发明提供了一种曝光装置，所述曝光装置包括被配置为在基板上的抗蚀剂膜上形成标记的形成单元，以及控制单元，该控制单元被配置为通过基于标记的测量位置将图案投影到基板上的抗蚀剂膜上的目标位置上来执行曝光处理以形成潜像，其中，在对去除具有第一标记的第一抗蚀剂膜之后其上已形成有第二抗蚀剂膜的返工基板执行曝光处理之前，控制单元使形成单元执行在第二抗蚀剂膜上形成第二标记的形成处理，以使第二标记将位于返工基板上的偏离第一标记的位置的位置处。

专利内容

(19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 114488709 A (43)申请公布日 2022.05.13 (21)申请号 202210113165.4 H01L 21/027 (2006.01) H01L 21/033 (2006.01) (22)申请日 2019.04.03 (30)优先权数据 2018-071919 2018.04.03 JP (62)分案原申请数据 201910263549.2 2019.04.03 (71)申请人 佳能株式会社 地址 日本东京 (72)发明人 松田丰　玉置公寿　 (74)专利代理机构 中国贸促会专利商标事务所 有限公司 11038 专利代理师 杨小明 (51)Int.Cl. G03F 7/20 (2006.01) G03F 9/00 (2006.01) 权利要求书2页 说明书8页 附图9页 (54)发明名称 曝光装置和制造物品的方法 (57)摘要 本发明涉及曝光装置和制造物品的方法。本 发明提供了一种曝光装置，所述曝光装置包括被 配置为在基板上的抗蚀剂膜上形成标记的形成 单元，以及控制单元，该控制单元被配置为通过 基于标记的测量位置将图案投影到基板上的抗 蚀剂膜上的目标位置上来执行曝光处理以形成 潜像，其中，在对去除具有第一标记的第一抗蚀 剂膜之后其上已形成有第二抗蚀剂膜的返工基 板执行曝光处理之

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