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发明

成像计量目标及方法

2023-06-11 12:08:03 发布于四川 1
  • 申请专利号：CN202110100880.X
  • 公开（公告）日：2024-10-18
  • 公开（公告）号：CN112859540A
  • 申请人：科磊股份有限公司
摘要：本申请实施例涉及成像计量目标及方法。本发明提供计量工具及方法，其估计对应于从周期性目标上的光散射产生的不同衍射级的形貌相位的效应，及调整测量条件以改进测量准确度。在成像中，可通过基于对比函数行为的分析选择适当测量条件、改变照明条件(减小光谱宽度及照明NA)、使用偏光目标及/或光学系统、使用多个散焦位置等而减小叠加误差放大。可使用额外测量或额外目标单元在成像或散射测量中执行测量结果的实时校准。

专利内容

(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 112859540 A (43)申请公布日 2021.05.28 (21)申请号 202110100880.X (51)Int.Cl. G03F 7/20 (2006.01) (22)申请日 2016.05.19 G02B 27/32 (2006.01) (30)优先权数据 H04N 5/232 (2006.01) 62/163,783 2015.05.19 US G02B 7/38 (2021.01) 62/222,724 2015.09.23 US G06T 7/80 (2017.01) (62)分案原申请数据 201680028226.X 2016.05.19 (71)申请人 科磊股份有限公司 地址 美国加利福尼亚州 (72)发明人 V ·莱温斯基　Y ·帕斯卡维尔　 A ·玛纳森　Y ·沙利波　 (74)专利代理机构 北京律盟知识产权代理有限 责任公司 11287 代理人 张世俊

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