发明

用于除去光致抗蚀剂的剥离剂组合物和使用其剥离光致抗蚀剂的方法

2023-06-14 13:05:52 发布于四川 0
  • 申请专利号:CN202110023695.5
  • 公开(公告)日:2024-09-13
  • 公开(公告)号:CN113138544A
  • 申请人:株式会社LG化学
摘要:本发明涉及用于除去光致抗蚀剂的剥离剂组合物和使用其剥离光致抗蚀剂的方法,所述用于除去光致抗蚀剂的剥离剂组合物具有优异的光致抗蚀剂剥离力,并且可以在剥离过程期间抑制下部金属层的腐蚀并有效地除去氧化物。所述剥离剂组合物包含:其中氮经1至2个碳数为1至5的线性或支化烷基取代的酰胺化合物;胺化合物;极性有机溶剂;水合肼;和基于三唑的化合物。

专利内容

(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 113138544 A (43)申请公布日 2021.07.20 (21)申请号 202110023695.5 (22)申请日 2021.01.08 (30)优先权数据 10-2020-0007112 2020.01.20 KR (71)申请人 株式会社LG化学 地址 韩国首尔 (72)发明人 宋贤宇 孙成旼 韩东一 朴泰文  李东勋  (74)专利代理机构 北京集佳知识产权代理有限 公司 11227 代理人 高世豪 冷永华 (51)Int.Cl. G03F 7/42 (2006.01) 权利要求书2页 说明书11页 (54)发明名称 用于除去光致抗蚀剂的剥离剂组合物和使 用其剥离光致抗蚀剂的方法 (57)摘要 本发明涉及用于除去光致抗蚀剂的剥离剂 组合物和使用其剥离光致抗蚀剂的方法,所述用 于除去光致抗蚀剂的剥离剂组合物具有优异的 光致抗蚀剂剥离力,并且可以在剥离过程期间抑 制下部金属层的腐蚀并有效地除去氧化物。所述 剥离剂组合物包含:其中氮经1至2个碳数为1至5 的线性或支化烷基取代的酰胺化合物;胺化合 物;极性有机溶剂;水合肼;和基于三唑的化合 物。 A 4 4 5 8 3 1 3 1 1 N C CN 113138544 A 权 利 要 求 书 1/2页 1.一种

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