一种用于制备超低温团簇的激光溅射脉冲团簇源

专利内容

(19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 116060627 A (43)申请公布日 2023.05.05 (21)申请号 202310026786.3 B22F 1/142 (2022.01) (22)申请日 2023.01.09 (71)申请人 天津大学 地址 300072 天津市南开区卫津路92号 (72)发明人 马雷　赵金波　苗琳　刘朝君　 陈泽洋　 (74)专利代理机构 天津市北洋有限责任专利代 理事务所 12201 专利代理师 琪琛 (51)Int.Cl. B22F 9/14 (2006.01) B22F 9/12 (2006.01) B82Y 30/00 (2011.01) B82Y 40/00 (2011.01) B22F 1/054 (2022.01) 权利要求书2页 说明书6页 附图3页 (54)发明名称 一种用于制备超低温团簇的激光溅射脉冲 团簇源 (57)摘要 本发明属于团簇物理学技术领域，公开了一 种用于制备超低温团簇的激光溅射脉冲团簇源， 包括设置有团簇生长腔室的中心源体，团簇生长 腔室连通有激光溅射通路、样品通路、载气通路、 喷嘴接口；低温制冷机和中心源体外部分别安装 冷头真空热屏蔽罩和源真空热屏蔽罩，用于减少 温度向外扩散及热辐射影响；中心源体通过导热 带和低温制冷机连接座与低温制冷机连接，导热 带对中心源体传递低温且调整位置