一种基于渗氮层基体表面相组成调控高效沉积制备非晶碳膜的方法及其应用2025

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(19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 116949389 A (43)申请公布日 2023.10.27 (21)申请号 202310963722.6 (22)申请日 2023.07.31 (71)申请人 安徽工业大学 地址 243032 安徽省马鞍山市经济技术开 发区南区嘉善科技园2号楼 (72)发明人 杨阳　李杰　张世宏　郑军　 赵栋才　 (74)专利代理机构 合肥昊晟德专利代理事务所 (普通合伙) 34153 专利代理师 王林 (51)Int.Cl. C23C 8/38 (2006.01) C23C 8/80 (2006.01) C23C 16/26 (2006.01) C23C 16/50 (2006.01) 权利要求书1页 说明书6页 附图7页 (54)发明名称 一种基于渗氮层基体表面相组成调控高效 沉积制备非晶碳膜的方法及其应用 (57)摘要 本发明涉及复合涂层制备技术领域，具体涉 及一种基于渗氮层基体表面相组成调控高效沉 积制备非晶碳膜的方法及其应用，本发明在等离 子氮化系统中，利用高温等离子体渗氮，后接低 温等离子体镀碳膜技术，通过精准调控基体渗氮 层表面相组成及其相对含量诱导后续非晶碳膜 的高效沉积，该方法可以提高碳膜的生长效率以 及膜基结合力，获得性能优异的减摩耐磨复合涂 层从而改善工件的摩擦磨损性能，形成一种在等 离子体氮化系统中高温等离子体渗氮后接低温 等离子