光敏树脂组合物、图案形成方法及基板保护用覆膜的制备方法

专利内容

(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 113448171 A (43)申请公布日 2021.09.28 (21)申请号 202010232187.3 (22)申请日 2020.03.27 (71)申请人 苏州深通新材料有限公司 地址 215000 江苏省苏州市中国（江苏）自 由贸易试验区苏州片区苏州工业园区 金鸡湖大道99号苏州纳米城西北区12 幢401-102 (72)发明人 柳善　吴贤珠　 (74)专利代理机构 成都超凡明远知识产权代理 有限公司 51258 代理人 魏彦　金相允 (51)Int.Cl. G03F 7/075(2006.01) G03F 7/00(2006.01) G03F 7/11(2006.01) 权利要求书2页 说明书13页 (54)发明名称 光敏树脂组合物、图案形成方法及基板保护 用覆膜的制备方法 (57)摘要 本发明提供负型光敏树脂组合物、利用该组 合物的图案的形成方法及基板保护用覆膜的制 备方法，负型光敏树脂组合物包含：含有以下述 化学式1及2表示的重复单位的光敏树脂、官能单 体及光引发剂。本发明的负型光敏树脂组合物包 含具有呫吨骨架的硅氧烷树脂，从而具有耐热 性、基板硬度及基板密合性等优异的物性。[化学 式1]