光学邻近修正方法

专利内容

(19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 116360203 A (43)申请公布日 2023.06.30 (21)申请号 202111630338.1 (22)申请日 2021.12.28 (71)申请人 中芯国际集成电路制造(上海)有限 公司 地址 201203 上海市浦东新区张江路18号 申请人 中芯国际集成电路制造(北京)有限 公司 (72)发明人 严中稳　刘娜　 (74)专利代理机构 北京集佳知识产权代理有限 公司 11227 专利代理师 唐嘉 (51)Int.Cl. G03F 1/36 (2012.01) G03F 7/20 (2006.01) 权利要求书3页 说明书10页 附图7页 (54)发明名称 光学邻近修正方法 (57)摘要 一种光学邻近修正方法，包括 ：提供目标版 图，所述目标版图包括若干目标图形 ；获取初始 版图，所述初始版图包括与若干目标图形对应的 若干初始图形；对所述初始版图进行曝光处理， 获取初始曝光版图；对比所述初始曝光版图与所 述目标版图，获取所述初始曝光版图中的若干缺 陷，并获取所述若干缺陷对应的若干边缘放置误 差；根据所述若干边缘放置误差，在若干初始图 形中获取若干待偏移图形；基于各待偏移图形对 应的若干边缘放置误差，偏移各待偏移图形，形 成初始修正版图；对所述初始修正版图进行若干 次局部光学邻近修正，获取修正版图，以减少局 A 部光学邻近修正中的EPE缺陷，提高修正版图的