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发明

一种可制备纳米尺度图案的紫外光固化压印胶及其压印方法与制品2024

2024-03-25 07:46:45 发布于四川 0
  • 申请专利号：CN202311496126.8
  • 公开（公告）日：2024-03-22
  • 公开（公告）号：CN117742075A
  • 申请人：中国科学院宁波材料技术与工程研究所|||哈尔滨工业大学
摘要：本发明涉及一种可制备纳米尺度图案的紫外光固化压印胶及其压印方法与制品，属于纳米压印技术领域。本发明公开了一种可制备纳米尺度图案的紫外光固化压印胶，所述紫外光固化压印胶的配方包括：含Si‑H的甲基环硅氧烷10～90％、含乙烯基的甲基环硅氧烷10～90％、紫外光催化剂0.1～1％、活性稀释剂0.1～10％、含氟表面活性剂0.1～10％、其他微量助剂0.01～5％；所述配方中硅氧烷的含量为50～70％；所述含Si‑H的甲基环硅氧烷中的Si‑H、含乙烯基的甲基环硅氧烷中的乙烯基的比值1:(0.5～2)。本发明还公开了一种压印方法及厚度为10～500nm，单列宽为10～500nm的紫外光固化压印胶。本发明的具有纳米尺度图案的紫外光固化压印胶形状准确，边界清晰，分辨率高；可进一步加工刻蚀，可具有较强的抗刻蚀能力与刻蚀选择性。

专利内容

(19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 117742075 A (43)申请公布日 2024.03.22 (21)申请号 202311496126.8 (22)申请日 2023.11.10 (71)申请人 中国科学院宁波材料技术与工程研 究所 地址 315201 浙江省宁波市镇海区庄市大 道519号 申请人 哈尔滨工业大学 (72)发明人 宋育杰　孙佳琪　刘明　周子皓　 (74)专利代理机构 宁波市鄞州盛飞专利代理事 务所(特殊普通合伙) 33243 专利代理师 洪珊珊 (51)Int.Cl. G03F 7/075 (2006.01) G03F 7/00 (2006.01) G03F 7/004 (2006.01) 权利要求书2页 说明书9页 附图2页 (54)发明名称 一种可制备纳米尺度图案的紫外光固化压 印胶及其压印方法与制品 (57)摘要 本发明涉及一种可制备纳米尺度图案的紫 外光固化压印胶及其压印方法与制品，属于纳米 压印技术领域。本发明公开了一种可制备纳米尺 度图案的紫外光固化压印胶，所述紫外光固化压 印胶的配方包括：含Si‑H的甲基环硅氧烷10 ～ 90％、含乙烯基的甲基环硅氧烷10～90％、紫外 光催化剂0.1 ～1％、活性稀释剂0.1 ～10％、含氟 表面活性剂0 .1 ～10％、其他微量助剂0 .01 ～ 5％；所述配方中硅氧烷的含量为50 ～70％；所述 含Si‑H

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