投影光学系统、扫描曝光装置以及物品制造方法

专利内容

(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 112596342 A (43)申请公布日 2021.04.02 (21)申请号 202011060197.X (22)申请日 2020.09.30 (30)优先权数据 2019-181654 2019.10.01 JP (71)申请人 佳能株式会社 地址 日本东京 (72)发明人 河野道生　 (74)专利代理机构 中国贸促会专利商标事务所 有限公司 11038 代理人 孙蕾 (51)Int.Cl. G03F 7/20 (2006.01) 权利要求书2页 说明书8页 附图29页 (54)发明名称 投影光学系统、扫描曝光装置以及物品制造 方法 (57)摘要 本公开提供一种投影光学系统、扫描曝光装 置以及物品制造方法。投影光学系统是使来自物 面处的光轴外的圆弧状良像范围的光束依次经 由第1折射光学系统、凹反射面、凸反射面、所述 凹反射面、第2折射光学系统而成像于像面处的 圆弧状良像范围的等倍的光学系统。所述第1折 射光学系统以及所述第2折射光学系统分别包括 两个透镜，所述两个透镜具有非球面。 A 2 4 3 6 9 5 2 1 1 N C CN 112596342 A 权　利　要　求　书 1/2页 1.一种投影光学系统，是使来自物面的光轴外的圆弧状良像范围的光束依次经由第1 折射光学系统、凹反射面、凸反射面