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发明

锗透镜基底上镀制8-12μmDLC加减反射增透膜的制备方法

2023-07-03 10:11:02 发布于四川 1
  • 申请专利号：CN202310365839.4
  • 公开（公告）日：2025-03-11
  • 公开（公告）号：CN116356316A
  • 申请人：安徽光智科技有限公司
摘要：一种锗透镜基底上镀制8‑12μmDLC加减反射增透膜的制备方法包括步骤：S1，将作为镜片的锗透镜基底的陪镀片和产品的表面进行清洁处理，陪镀片的厚度为0.9‑1.5mm；S2，在第一面上镀制DLC膜层；S3，在第二面镀制减反射增透膜。S4，镀制完成后，待真空室冷却至80℃以下取出镜片。通过第一面镀制的作为外膜层的DLC膜层和第二面镀制的作为内膜层的减反射增透膜，基于陪镀片的8‑12μm红外波段的测试，8‑12μm红外波段的透过率能达到91％以上。内膜层和外膜层的配合既能满足恶劣环境工作又能满足红外透射率要求。

专利内容

(19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 116356316 A (43)申请公布日 2023.06.30 (21)申请号 202310365839.4 C23C 14/16 (2006.01) C23C 14/54 (2006.01) (22)申请日 2023.04.04 C23C 14/06 (2006.01) (71)申请人 安徽光智科技有限公司 C23C 14/30 (2006.01) 地址 239004 安徽省滁州市琅琊经济开发 C23C 14/26 (2006.01) 区南京路100号 (72)发明人 梁献波　刘梦佳　尹士平　 (74)专利代理机构 北京五洲洋和知识产权代理 事务所(普通合伙) 11387 专利代理师 张向琨 (51)Int.Cl. C23C 28/00 (2006.01) C23C 16/505 (2006.01) C23C 16/02 (2006.01) C23C 16/26 (2006.01) C23C 14/02 (2006.01)

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