锗透镜基底上镀制8-12μmDLC加减反射增透膜的制备方法
- 申请专利号:CN202310365839.4
- 公开(公告)日:2025-03-11
- 公开(公告)号:CN116356316A
- 申请人:安徽光智科技有限公司
专利内容
(19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 116356316 A (43)申请公布日 2023.06.30 (21)申请号 202310365839.4 C23C 14/16 (2006.01) C23C 14/54 (2006.01) (22)申请日 2023.04.04 C23C 14/06 (2006.01) (71)申请人 安徽光智科技有限公司 C23C 14/30 (2006.01) 地址 239004 安徽省滁州市琅琊经济开发 C23C 14/26 (2006.01) 区南京路100号 (72)发明人 梁献波 刘梦佳 尹士平 (74)专利代理机构 北京五洲洋和知识产权代理 事务所(普通合伙) 11387 专利代理师 张向琨 (51)Int.Cl. C23C 28/00 (2006.01) C23C 16/505 (2006.01) C23C 16/02 (2006.01) C23C 16/26 (2006.01) C23C 14/02 (2006.01)
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