热辅助磁记录介质用溅射靶
- 申请专利号:CN202080074953.6
- 公开(公告)日:2024-10-29
- 公开(公告)号:CN114600190A
- 申请人:田中贵金属工业株式会社|||国立大学法人东北大学
专利内容
(19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 114600190 A (43)申请公布日 2022.06.07 (21)申请号 202080074953.6 (74)专利代理机构 中原信达知识产权代理有限 责任公司 11219 (22)申请日 2020.10.27 专利代理师 盛曼 金龙河 (30)优先权数据 (51)Int.Cl. 2019-199915 2019.11.01 JP G11B 5/65 (2006.01) (85)PCT国际申请进入国家阶段日 G11B 5/851 (2006.01) 2022.04.26 G11B 5/02 (2006.01) (86)PCT国际申请的申请数据 C23C 14/08 (2006.01) PCT/JP2020/040215 2020.10.27 C23C 14/14 (2006.01) C23C 14/34 (2006.01) (87)PCT国际申请的公布