一种基于斐波那契数列的超表面快速设计方法2025
- 申请专利号:CN202311320418.6
- 公开(公告)日:2025-07-04
- 公开(公告)号:CN117275630A
- 申请人:电子科技大学
专利内容
(19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 117275630 A (43)申请公布日 2023.12.22 (21)申请号 202311320418.6 (22)申请日 2023.10.12 (71)申请人 电子科技大学 地址 611731 四川省成都市高新区(西区) 西源大道2006号 (72)发明人 陈海燕 姚鑫 刘倩 邓龙江 梁迪飞 谢建良 周佩珩 (74)专利代理机构 电子科技大学专利中心 51203 专利代理师 闫树平 (51)Int.Cl. G16C 60/00 (2019.01) 权利要求书1页 说明书4页 附图8页 (54)发明名称 一种基于斐波那契数列的超表面快速设计 方法 (57)摘要 本发明涉及航空航天技术领域,具体为一种 基于斐波那契数列的超表面快速设计方法。本发 明结合斐波那契数列与反射相位,以快速生成具 有离散相位特性的漫反射超表面的相位分布,进 而实现了超表面的RCS减缩;并可进一步通过改 变设定的初始相位值,得到不同的相位分布,以 此得到不同的超表面进而择优选用。经仿真模拟 计算证实,基于本发明优化设计的超表面,其在 宽频带、大角度范围内有着良好的的RCS减缩性 能;通过相关实验测试也验证了本发明的有效 性,可有效快速设计出漫反射型用于RCS减缩的 A 超表面,为漫反射型超表面的设计提供了一种新 0 的设计优化思路;且本发明可操作性强,易于实 3 6 5 现,值得推广。 7 2 7 1 1
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