发明

双面同时曝光、显影、蚀刻的玻璃sensor制备工艺及应用

2023-05-12 12:06:46 发布于四川 0
  • 申请专利号:CN202210286281.6
  • 公开(公告)日:2024-10-29
  • 公开(公告)号:CN114594662A
  • 申请人:牧东光电科技有限公司
摘要:本发明涉及双面同时曝光、显影、蚀刻的玻璃sensor制备工艺:清洗玻璃→设置UV‑Cut涂层→制备ITO玻璃→双面涂布光刻胶→ITO玻璃的双面曝光、显影→ITO玻璃的双面蚀刻→印刷和镭射边缘走线→印刷可剥胶。还提供一种新型玻璃sensor,由前述制备工艺制得。本发明通过设置UV‑Cut涂层实现了在玻璃的双面同时曝光、显影、蚀刻,可避免双面曝光时相互影响ITO曝光,可有效防止单面两次蚀刻工艺造成的划伤、异物等外观不良,外观良率由80%提高至95%;取消边缘走线黄光制程,采用印刷银浆工艺,无需蚀刻,解决断线、蚀刻不净等功能问题,电性良率由90%提高至98%;简化了制备工序,提高了生产效率,有效降低了生产成本。

专利内容

(19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 114594662 A (43)申请公布日 2022.06.07 (21)申请号 202210286281.6 (22)申请日 2022.03.23 (71)申请人 牧东光电科技有限公司 地址 215000 江苏省苏州市工业园区北前 巷8号 (72)发明人 李建军  (74)专利代理机构 苏州优博知识产权代理事务 所(普通合伙) 32487 专利代理师 石煜 (51)Int.Cl. G03F 7/20 (2006.01) 权利要求书2页 说明书6页 附图3页 (54)发明名称 双面同时曝光、显影、蚀刻的玻璃sensor制 备工艺及应用 (57)摘要 本发明涉及双面同时曝光、显影、蚀刻的玻 璃sensor制备工艺:清洗玻璃→设置UV‑Cut涂层 →制备ITO玻璃→双面涂布光刻胶→ITO玻璃的 双面曝光、显影→ITO玻璃的双面蚀刻→印刷和 镭射边缘走线→印刷可剥胶。还提供一种新型玻 璃sensor,由前述制备工艺制得。本发明通过设 置UV‑Cut涂层实现了在玻璃的双面同时曝光、显 影、蚀刻,可避免双面曝光时相互影响ITO曝光, 可有效防止单面两次蚀刻工艺造成的划伤、异物 等外观不良,外观良率由80%提高至95%;取消 边缘走线黄光制程,采用印刷银浆工艺,无需蚀 A 刻,解决断线、蚀刻不净等功能问题,电性良率由 2 90%提高至98%;简化了制备工序,提高了生产 6 6 4 效率,有效降低了生产成本。 9 5 4 1 1

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