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PCT发明

光刻装置、衬底台以及方法

2023-07-09 07:05:13 发布于四川 2
  • 申请专利号：CN202080038409.6
  • 公开（公告）日：2024-10-15
  • 公开（公告）号：CN113874789A
  • 申请人：ASML控股股份有限公司|||ASML荷兰有限公司
摘要：一种用于支撑衬底的衬底台，包括表面以及粗突节。粗突节中的每个粗突节包括突节顶部表面以及细突节。粗突节被设置在衬底台的表面上，细突节被设置在突节顶部表面上。当衬底台支撑衬底时，细突节与衬底接触。

专利内容

(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 113874789 A (43)申请公布日 2021.12.31 (21)申请号 202080038409.6 I ·西格尔　T ·尤特迪杰克　 (22)申请日 2020.05.05 (74)专利代理机构 北京市金杜律师事务所 11256 (30)优先权数据 代理人 赵林琳 62/852,578 2019.05.24 US (51)Int.Cl. (85)PCT国际申请进入国家阶段日 G03F 7/20 (2006.01) 2021.11.23 H01L 21/687 (2006.01) (86)PCT国际申请的申请数据 PCT/EP2020/062463 2020.05.05 (87)PCT国际申请的公布数据 WO2020/239373 EN 2020.12.03 (71)申请人 ASML控股股份有限公司 地址 荷兰维德霍温 申请人 ASML荷兰有限公司 (72)发明人 M ·利普森　S ·阿坎塔　 B ·D ·道森　M ·A ·索

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