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PCB阻焊曝光设备及其光源单元

2023-05-12 10:59:23 发布于四川 0
  • 申请专利号:CN202210202432.5
  • 公开(公告)日:2024-10-29
  • 公开(公告)号:CN114527626A
  • 申请人:杭州新诺微电子有限公司
摘要:本申请涉及一种PCB阻焊曝光设备及其光源单元,包括光输出装置、聚焦装置与照明装置,光输出装置发出的光依次经过聚焦装置与照明装置后,通过PCB阻焊曝光设备的投影单元照射至待曝光基板上;光输出装置用于输出初始光信号;聚焦装置用于接收初始光信号并进行汇聚准直处理,输出汇聚后的光信号;照明装置用于接收汇聚后的光信号并进行匀光整形处理,输出匀光整形后的光信号;其中,匀光整形后的光信号用于完成待曝光基板的PCB阻焊层曝光。原本发散的光极大程度的变为可利用的能量,得到光斑面积符合投影单元工作范围的光信号照射至待曝光基板上,促使其阻焊层完成聚合固化,使得所需的曝光时长与功耗大大降低,减少了光照与能耗上的资源浪费。

专利内容

(19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 114527626 A (43)申请公布日 2022.05.24 (21)申请号 202210202432.5 (22)申请日 2022.03.02 (71)申请人 杭州新诺微电子有限公司 地址 311200 浙江省杭州市萧山区南阳街 道岩峰村(自然村)772号-28 (72)发明人 王阔 林垂真 尚小兵  (74)专利代理机构 华进联合专利商标代理有限 公司 44224 专利代理师 潘宏洲 (51)Int.Cl. G03F 7/20 (2006.01) H05K 3/06 (2006.01) 权利要求书1页 说明书7页 附图2页 (54)发明名称 PCB阻焊曝光设备及其光源单元 (57)摘要 本申请涉及一种PCB阻焊曝光设备及其光源 单元,包括光输出装置、聚焦装置与照明装置,光 输出装置发出的光依次经过聚焦装置与照明装 置后,通过PCB阻焊曝光设备的投影单元照射至 待曝光基板上;光输出装置用于输出初始光信 号;聚焦装置用于接收初始光信号并进行汇聚准 直处理,输出汇聚后的光信号;照明装置用于接 收汇聚后的光信号并进行匀光整形处理,输出匀 光整形后的光信号;其中,匀光整形后的光信号 用于完成待曝光基板的PCB阻焊层曝光。原本发 散的光极大程度的变为可利用的能量,得到光斑 面积符合投影单元工作范围的光信号照射至待 A 曝光基板上,促使其阻焊层完成聚合固化,使得 6 所需的曝光时长与功耗大大降低,减少了光照与 2 6

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