一种ITO平面靶材的制备方法2025

专利内容

(19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 117263670 A (43)申请公布日 2023.12.22 (21)申请号 202311254824.7 (22)申请日 2023.09.27 (71)申请人 先导薄膜材料（广东）有限公司 地址 511517 广东省清远市高新区百嘉工 业园27-9号A区 (72)发明人 李明鸿　李帅　余芳　高日旭　 李叶　 (74)专利代理机构 广州三环专利商标代理有限 公司 44202 专利代理师 宋静娜 (51)Int.Cl. C04B 35/453 (2006.01) C04B 35/64 (2006.01) 权利要求书1页 说明书5页 (54)发明名称 一种ITO平面靶材的制备方法 (57)摘要 本发明公开了一种ITO平面靶材的制备方 法，属于靶材制备技术领域。该方法通过在靶坯 烧结过程中在烧结炉的承托板上设置特殊的滑 动结构以及隔热结构，可以在不改变加热方式的 情况下有效抑制生成的ITO平面靶材的翘曲问 题，同时不会出现开裂现象。 A 0 7 6 3 6 2 7 1 1 N C CN 117263670 A 权　利　要　求　书 1/1页 1.一种ITO平面靶材的制备方法，其特征在于，包括以下步骤： (1)在烧结炉的承托板上放置一级垫片，随后铺洒一层陶瓷颗粒，再放置二级垫片，最