1. 您所在位置：
  2. 网站首页
  3. 专利分类
  4. 物理
发明

有机膜形成材料、有机膜的形成方法、图案形成方法、以及化合物

2023-06-11 13:26:09 发布于四川 1
  • 申请专利号：CN202011454750.8
  • 公开（公告）日：2024-08-20
  • 公开（公告）号：CN112987495A
  • 申请人：信越化学工业株式会社
摘要：本发明涉及有机膜形成材料、有机膜的形成方法、图案形成方法、以及化合物。本发明的目的在于提供为了形成兼具高程度的填埋特性/高程度的平坦化特性/和基板间的优良密合力的有机膜的有机膜材料。本发明提供包含下列通式(1)表示的化合物及有机溶剂的有机膜形成材料。上述通式(1)中，X为碳数2～50的n1价的有机基团，n1表示1～10的整数，R1为下列通式(2)～(4)中的至少一者以上；

专利内容

(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 112987495 A (43)申请公布日 2021.06.18 (21)申请号 202011454750.8 C07D 405/14 (2006.01) C07D 209/48 (2006.01) (22)申请日 2020.12.10 C07D 403/14 (2006.01) (30)优先权数据 C07D 487/04 (2006.01) 2019-224907 2019.12.12 JP C07C 53/126 (2006.01) (71)申请人 信越化学工业株式会社 C07C 65/28 (2006.01) 地址 日本东京都 (72)发明人 郡大佑　中原贵佳　美谷岛祐介　 (74)专利代理机构 北京林达刘知识产权代理事 务所(普通合伙) 11277 代理人 刘新宇　李茂家 (51)Int.Cl. G03F 7/004 (2006.01) G03F 7/027 (2006.01) G03F 7/11 (2006.01) C07D 303/30 (2006.01)

最新专利

相关专利