光掩模、光掩模的设计方法、光掩模坯料和显示装置的制造方法

专利内容

(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 112987484 A (43)申请公布日 2021.06.18 (21)申请号 202110223505.4 (22)申请日 2016.06.15 (30)优先权数据 2015-130976 2015.06.30 JP (62)分案原申请数据 201610423251.X 2016.06.15 (71)申请人 HOYA株式会社 地址 日本东京都 (72)发明人 小林周平　 (74)专利代理机构 北京三友知识产权代理有限 公司 11127 代理人 庞东成 (51)Int.Cl. G03F 1/26 (2012.01) 权利要求书1页 说明书11页 附图4页 (54)发明名称 光掩模、光掩模的设计方法、光掩模坯料和 显示装置的制造方法 (57)摘要 本发明提供在图案的转印时能够形成有利 形状的抗蚀剂图案且显示出优异的转印性的光 掩模、光掩模的制造方法、光掩模的设计方法、光 掩模坯料和显示装置的制造方法。光掩模在透明 基板上具备包含经图案化的相移膜的转印用图 案。上述转印用图案包含在上述透明基板上形成 有相移膜的相移部、和上述透明基板露出的透光 部。设上述相移膜具有的、对于g线的相移量(度) 为 对于h线的相移量(度)为 对于i线的 相移量(度)为 时，则满足 且这些 中，最接近180度的值为 A 4