发明

用于获得关于以CVD法沉积的层的信息的方法和设备2024

2024-03-11 07:21:09 发布于四川 0
  • 申请专利号:CN202311430530.5
  • 公开(公告)日:2024-03-08
  • 公开(公告)号:CN117660934A
  • 申请人:艾克斯特朗欧洲公司
摘要:本发明涉及用于获得关于由多个依次进行的步骤构成的过程的信息的方法,该过程用于在反应器(14)的过程腔中的衬底上沉积至少一个层、尤其半导体层,其中,以时间序列将用于致动器的调节数据(SD)、传感器的测量值(MW)作为原始数据(RD)和其时间基准一起存储在日志文件中。通过使用原始数据应获得关于沉积的层的品质的认识。为此借助计算装置通过原始数据的关系建立从原始数据获得过程参数,通过分析过程参数的时间变化曲线识别过程步骤的开始和结束以及过程步骤的类型;针对过程步骤的至少一些,从测量值形成对应于过程步骤的相应类型的特征性的过程步骤参量;将因此获得的过程步骤参量与存储在过程数据存储器中的配属于至少类似过程步骤的比较参量进行比较。

专利内容

(19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 117660934 A (43)申请公布日 2024.03.08 (21)申请号 202311430530.5 H01L 21/67 (2006.01) C23C 16/54 (2006.01) (22)申请日 2018.12.13 C23C 16/30 (2006.01) (30)优先权数据 C23C 16/52 (2006.01) 102017130551.3 2017.12.19 DE C23C 16/34 (2006.01) (62)分案原申请数据 C23C 16/448 (2006.01) 201880088514.3 2018.12.13 (71)申请人 艾克斯特朗欧洲公司 地址 德国黑措根拉特 (72)发明人 P ·S ·劳弗  (74)专利代理机构 北京市柳沈律师事务所 11105 专利代理师 任丽荣 (51)Int.Cl. C23C 16/455 (2006.01) H01L 21/02 (2006.01)

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